Plasma abil toimiv aatomkihtsadestusseade

Kokkuvõte

Hange puudutab plasma abil toimivat aatomkihtsadestusseadet õhukeste kilede sadestamiseks erinevatele substraatidele alates üksikkiibi formaadist kuni vähemalt 150 mm vahvlini. Seade peab võimaldama korratavaid sadestusprotsesse juhtivate, pooljuhtivate ja dielektriliste kihtide jaoks ning mitmekihilist töötlemist ilma vaakumit katkestamata. Kaasa tuleb tarnida juhtarvuti koos monitori, klaviatuuri, hiire, vajalike tarkvaralitsentside ja Windows 11 operatsioonisüsteemiga.